Anonim

Vuonna 2002 IR osti 150 mm: n ja 200 mm: n fabin ESM: ltä (entinen Newport Wafer Fab) 81 miljoonalla dollarilla. IR aloitti rampin 150 mm: n tehtaan maaliskuussa 2002.

"Yrityskaupan jälkeen IR on investoinut yli 66 miljoonaa dollaria laajentaakseen tuotantolaitoksia 150 mm: n tehtaassa ja lisännyt henkilöstöä yli 100: lla", IR: n toimitusjohtaja Alex Lidow kertoi Electronics Weeklylle.

Liipaisin, jolla päätetään tuoda esiin 200 mm: n linja, vahvistaa puolijohdekysyntää. "Meillä on erittäin hyvä puolitoista tai enemmän vuotta edessämme", sanoi Lidow. IR kasvatti liikevaihtoaan 30 prosenttia ensimmäisellä neljänneksellä edelliseen kolmeen kuukauteen verrattuna.

n

Päätöksen auttaminen on myös alueellinen valikoiva avustus. "Tuemme tätä hanketta on ollut ratkaisevan tärkeä Newportin puolijohteiden valmistusosaamisen tulevaisuuden turvaamisessa", sanoi Walesin ensimmäinen ministeri Rhodri Morgan.

Tuote, jonka avulla IR luiskaa 200 mm: n fab, on sen viimeisin korkeajännitelaitteiden (HVIC) laitevalikoima, lisäämällä matalajännitepiirejä, joita tällä hetkellä valmistetaan 150 mm: n tehtaassa.

Lidow sanoi, että 200 mm: n linjan tulisi antaa IR: lle tarpeeksi kapasiteettia kestää vuoden 2006 loppuun.